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半導體產業

EMI製程代工

ABF基板製程代工

ABF基板製程代工

  1. 基板溫度設定:<120 ℃
  2.  表面清潔、粗糙化(Ion Source 或 RF Plasma Clean)  
  3. 制程工藝 Sus/Cu/Sus膜厚:150/1000~6000/300nm

ABF基板製程代工

ABF基板製程代工

ABF基板製程代工

  1.  水洗、酸洗(硫酸3%-5%)完成後烘乾水分 
  2.  進入烘烤爐,高溫烘烤去除水氣 
  3.  表面清潔、粗糙化(Ion Source 或 RF Plasma Clean) 
  4.  Ti製程,膜厚須達成 0.1μm 
  5.  Cu製程,膜厚須達成 2μm

化合物基板製程代工

化合物基板製程代工

化合物基板製程代工

  1.   表面清潔、粗糙化(Ion Source 或 RF Plasma Clean) 
  2.  Al製程,膜厚須達成 0.3μm 
  3.  Ti製程,膜厚須達成 0.15μm 

被動元件製程代工

化合物基板製程代工

化合物基板製程代工

  1. 陶瓷基板  
  2. 表面清潔、粗糙化(Ion Source 或 RF Plasma Clean) 
  3.  TaN製程,膜厚須達成 0.125μm 
  4.  TaO製程,膜厚須達成 0.125μm 

車載面板產業

提供一條龍服務

  1. 客制化設計與製造 
  2. IM-ITO膜層設計與制程導入 
  3. 量產參數調整與SPC Control建立  

高階面板產業

  1.  AR減反射應用做高階顯示屏面板上使用,使畫面更加清晰、不易反射,更能看清楚畫面的真實本色。 
  2. 上面的圖片中左邊沒用AR而右邊使用AR,左面的照片完全喪失色彩飽和及清晰度,有明顯的燈光反射影像。


地址: 台南市安南區怡安路二段599號8樓之2  

Address:RM. 2, 8F., NO. 599, SEC. 2, YI'AN RD., ANNAN DIST., TAINAN CITY , TAIWAN (R.O.C.) 

TEL : +886-6-5899861  ; FAX : +886-6-5899863

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